铝合金中的硅含量是决定微弧氧化 (MAO) 涂层质量、性能和外观的关键因素。硅颗粒会从根本上改变电化学过程以及生成陶瓷层的微观结构。
在 MAO 工艺中,高电压等离子体放电促进了铝基材上氧化铝 (Al₂O₃) 陶瓷层的生长。合金中的硅作为独立相存在,在这些条件下不会被阳极氧化。这些硅颗粒基本保持惰性,并被嵌入到生长的氧化物基体中,形成一个硬质、绝缘的氧化铝围绕未氧化硅颗粒生长的复合结构。结果是涂层不连续,形成了具有机械中断的异质结构,而不是单一均匀的陶瓷层。
这种微观结构的破坏对涂层的关键性能产生直接影响:
耐腐蚀性降低:氧化铝基体与嵌入硅颗粒的界面可能形成微型原电池和腐蚀通道,使腐蚀性介质渗透至基材。这会削弱涂层作为屏障的主要功能,盐雾测试耐久性低于低硅合金上的涂层。
耐磨性受损:尽管氧化铝相非常坚硬,但硅颗粒作为不连续点在机械应力下可能引发微裂纹,整体涂层的结合力和耐磨性低于单一氧化铝层。
外观和绝缘性能变化:嵌入的硅颗粒会散射光线,使涂层呈现深灰至黑色、斑驳的外观,这对美观要求较高的应用可能不理想。由于硅网络可能形成导电通道,电绝缘性能也可能不够一致。
这就是为什么在我们的 压铸设计服务 中,合金选择至关重要。对于需要最大 MAO 涂层性能的零件(如高耐磨和卓越耐腐蚀性要求的组件),我们强烈建议指定低硅合金,如 A360。虽然常用的高压铸造合金如 A380 和 ADC12(硅含量 7.5-9.5%)也可以处理,但所得 MAO 涂层在耐久性和保护性能方面无法达到最佳效果。高硅含量虽然有利于铸造性,但对高级表面涂层的完整性是不利的。