铝合金中的硅含量是决定微弧氧化涂层质量、性能和外观的关键因素。硅颗粒从根本上改变了电化学过程以及最终形成的陶瓷层的微观结构。
在微弧氧化过程中,高压等离子体放电促进了从铝基体生长出氧化铝陶瓷层。合金中以独立相形式存在的硅,在这些条件下不会被阳极氧化。相反,这些硅颗粒在很大程度上保持惰性,并被嵌入到正在生长的氧化物基体中。这就形成了一个不连续的复合结构,坚硬的绝缘氧化铝围绕着未被氧化的硅岛生长。这破坏了一个均匀、纯陶瓷层的形成,导致涂层更加不均匀且机械性能中断。
这种微观结构的破坏对涂层的关键性能有直接影响:
耐腐蚀性降低: 氧化铝基体与嵌入的硅颗粒之间的界面可能形成微电偶电池,并为腐蚀介质渗透到基体提供通道。这损害了涂层作为屏障的主要功能,导致其盐雾耐受性低于低硅合金上的涂层。
耐磨性受损: 虽然氧化铝相极其坚硬,但硅颗粒可能作为不连续点,在机械应力下引发微裂纹。涂层的整体内聚力和耐磨性可能低于在更纯合金上形成的整体氧化铝层。
外观和介电性能改变: 嵌入的硅颗粒会散射光线,使涂层呈现特有的深灰色至黑色、斑驳的外观。这对于美学应用来说可能是不理想的。由于硅网络形成的导电通路,电绝缘性能也可能变得不那么稳定。
这就是为什么在我们的压铸件设计服务中,合金选择至关重要。对于需要最大化微弧氧化涂层性能的部件——例如那些需要高耐磨性和卓越耐腐蚀性的部件——我们强烈建议指定使用低硅合金,如A360。虽然常见的压铸合金如A380和ADC12(含硅7.5-9.5%)也可以进行加工,但由此产生的微弧氧化涂层在耐用性和保护质量方面无法发挥其全部潜力。高硅含量虽然对铸造性能极佳,但对高级表面涂层的完整性有害。