会变。微弧氧化把被处理的那层铝转成氧化膜,生成物一半立在原表面之上,一半扎在原表面之下。ADC12 框体上 ±0.02 mm 的配合面,进槽之前没有遮住,涂层之后就动了尺寸。
微弧氧化不在金属表面铺一层东西,它转化的是已经在那里的金属。电解液里的放电在局部把氧化膜击穿,每个击穿点重建为结晶氧化铝。重建出来的氧化铝,一部分立在原表面之上,一部分落到基体里面去,两个方向同时进行。膜和金属之间没有别的东西:没有电镀打底层,没有胶膜,也没有一条可以起皮的边。结构这样长,尺寸自然跟着动:出槽的那个表面,已经不是进槽的那一个。
ADC12 按 ASTM B85 供货。硅相不像铝基体那样被转化,所以同一个铸态表面上的膜长得不匀,膜在铝上和硅相上厚薄不同。多少立在面上、多少钻进基体,由电解液、电流和处理时间定。
双向生长的膜,在配合的两边同时花掉公差。孔上,往外长把直径收小,往内长把孔壁吃掉一层。座面上,往外长把面顶离它的配对件。关节座的目标是 ±0.02 mm,公差带只有 0.04 mm 宽。一个面往外走 0.02 mm,正公差那一侧就全花完了。
实用的检查靠一根销规插进去试,不靠样本册上的算术。涂层之前能进孔的销规,涂层之后可能进不去;同一根销规还能看出这里哪个生长方向占上风。没有配合面的盖板,膜像漆一样铺上去,量不出变化。把这两类件画在同一张图上,要遮蔽的只有一个。
进槽之前遮蔽四类:螺纹、配合面、接地点、基准面。四类面各有各的检验,失效的方式也不一样。螺纹牙顶上有膜,有效直径就缩小,通规进不去。配合面上有膜,孔会收小,或者把座面顶得高过配对件。接地点上有膜,导体变成绝缘体,氧化膜不导电。基准面上有膜,量件所依据的那个平面就挪了,涂层前后的三坐标读数对不上。
部位 | 图纸值 | 单位 | 膜层影响 | 遮蔽 |
|---|---|---|---|---|
关节座 | ±0.02 | mm | 把面顶离配对件 | 要 |
座面平面度 | 0.03 | mm | 照抄铸态纹理 | 要 |
螺纹 | 通止 | 规 | 牙顶直径缩小 | 要,堵头 |
接地点 | 裸金属 | 接触 | 接头绝缘 | 要,胶带 |
基准面 | 0.03 | mm | 基准平面移动 | 要 |
漏掉的螺纹看上去仍然是螺纹,产线照样放它过去,到装配时螺栓才发现。补救是铰到下一档尺寸,紧固件的标注跟着改。遮蔽清单因此要写在图纸上、写进表面处理的文件包里,不能只留在发给车间的一句话里。
这个框体的膜厚,还要用生产槽里取的试片来测,所以图纸上暂时不写数值。电解液成分、电流密度、处理时间和合金牌号一起决定结果;换一种合金报出来的那个值,描述的是另一个槽。
图纸仍然可以把测量方法钉住:一个槽一片试片,读数取在双方约定的点上,检验计划里写明用膜厚仪。遮蔽不能等这个读数,因为一个面有意不涂,那是设计决定;一个面被误涂,就是一笔返工。真实试片上的一次读数能把这个数定下来,供应商的一句保证定不下来。
盐雾小时数同样还要测,先做哪一步比那个数字本身更重要。小时数只有和标准、试片制备、试片上的膜以及判定规则放在一起才有意义。这个框体在切削液和潮湿空气里跑,并不生活在盐雾箱里。
腐蚀从膜薄或者没膜的地方开始,所以要盯的是遮蔽边界和切边,整片涂满的试板看不出这些地方。现在先把标准、试片和判定规则定下来,小时数等首件测过之后再填。
然后把这些写进图纸:要遮蔽的部位逐条列名,要涂的面注明已涂,膜厚在生产试片上用膜厚仪读。涂层之后给螺纹加一道通止规检查,给每个座面加一遍三坐标。