化学蚀刻,或称化学铣削或光化学加工,是一种减材工艺,通过施加酸或碱性蚀刻剂选择性地从表面去除金属。光刻胶掩模定义了要蚀刻的区域,从而无需机械力即可创建复杂的设计或均匀的纹理。
清洁和表面准备
掩模应用(光刻胶或模板)
曝光和显影(针对光刻胶)
酸或碱性浴蚀刻
冲洗和掩模去除
结果是干净、可重复的表面图案或微特征,公差通常在±0.025毫米以内,表面粗糙度范围从Ra 0.4到1.6微米,具体取决于合金和深度。
优势 | 描述 | 应用影响 |
|---|---|---|
精密细节 | 能够实现精细线条和几何图案 | 适用于徽标、品牌或微流体结构 |
无机械应力 | 无工具压力或热变形 | 适用于薄壁或精细特征 |
均匀纹理 | 可复制的哑光、缎面或功能性粗糙度 | 用于抓握表面或光扩散 |
高通用性 | 兼容曲面、不规则或平面部件 | 应用于装饰性和技术性组件 |
化学蚀刻通常用于实现模拟喷砂、拉丝或沙纹的效果——无需物理研磨,因为物理研磨可能会损坏精细特征或引入应力。
虽然大多数铝合金都可以进行化学蚀刻,但高硅含量的铸造合金——例如A380——需要严格控制蚀刻液以避免不均匀的点蚀。硅或镁含量较低的合金通常会产生更均匀的蚀刻轮廓。
合金 | 硅含量 | 可蚀刻性 | 典型用途 |
|---|---|---|---|
A380 | 8.5–11.5% | 中等(需要受控蚀刻剂) | 通用结构和装饰部件 |
A360 | 9.0–10.0% | 良好 | 耐腐蚀外壳 |
AlSi12 | ~12% | 中等至良好 | 薄壁和轻质部件 |
在蚀刻前,合金应进行适当清洁,并去除加工油或氧化层,以确保图案转移和表面定义的一致性。
化学蚀刻广泛用于创建功能性表面和装饰元素:
品牌与标识:公司徽标、零件编号或二维码直接蚀刻在铝表面上
抓握与纹理增强:哑光图案以增加手持或工具操作部件的表面摩擦力
光学与显示应用:在反射表面上实现抗反射处理和光扩散图案
预涂层准备:轻微纹理化的表面以改善油漆、粉末涂层或阳极氧化的附着力
例如,带有微凹坑图案的蚀刻铝电子外壳可以减少眩光、隐藏指纹并改善触感吸引力——非常适合面向消费者的组件。
化学蚀刻可以与其他精加工和保护工艺结合使用:
抛光:在蚀刻前进行,以控制基准表面的均匀性
阳极氧化或铬酸盐转化:蚀刻表面由于表面积增加而更好地保留氧化物涂层
喷漆或印刷:蚀刻设计可作为多色油漆或激光标记的凹陷模板
Neway的表面处理工作流程通常安排 化学蚀刻在清洁/抛光和最终精加工步骤之间,以保持特征精度和表面一致性。